鉭靶材
用途:主要應用于半導體鍍膜和光學鍍膜。
純度:99.95%~99.99%。
規(guī)格:方靶材,厚度x寬度x長度=5~25x≤800x≤2000(mm)

鉭靶材
用途:主要應用于半導體鍍膜和光學鍍膜。
純度:99.95%~99.99%。
規(guī)格:方靶材,厚度x寬度x長度=5~25x≤800x≤2000(mm)


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